
Установка вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»
Установка вакуумной пайки УВП «ГелиТерм» предназначена для высококачественной пайки электронных компонентов, полупроводниковых приборов и микроэлектронных сборок в условиях вакуума и контролируемой газовой среде. Применение вакуума позволяет значительно снизить образование газовых включений и пустот в
паяных соединениях, повысить качество соединения и обеспечить стабильность технологического процесса.
Установка обеспечивает высокие скорости нагрева и охлаждения, равномерное распределение температуры в рабочей зоне и возможность проведения пайки без применения флюса.
В зависимости от комплектации технологический процесс может выполняться в среде азота, водорода или их смеси. Дополнительная система химической активации позволяют удалять оксидные плёнки с обрабатываемых поверхностей, улучшая смачивание припоем и качество паяных соединений.
Автоматизированная система управления с сенсорным экраном обеспечивает создание, сохранение и выполнение технологических программ с заданными температурно-временными профилями. Интерфейсы Ethernet и USB позволяют подключать внешние устройства, сохранять технологические данные и обеспечивать удалённое управление.
Области применения установки вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»
- Силовая электроника — пайка силовых полупроводниковых приборов, модулей и электронных компонентов.
- Микроэлектроника — монтаж полупроводниковых кристаллов, изготовление гибридных микроэлектронных сборок и многослойных электронных структур.
- Оптоэлектроника — сборка светодиодов, лазерных диодов и других оптоэлектронных компонентов.
- Герметизация электронных компонентов — создание герметичных соединений корпусов электронных приборов и модулей.
- Производство полупроводниковых приборов — пайка и герметизация компонентов на уровне полупроводниковой пластины до разделения на отдельные кристаллы.
- Высокомощные светодиоды — монтаж и пайка компонентов с повышенными требованиями к теплопроводности и качеству соединений.
- Микроэлектромеханические системы (МЭМС) — сборка и герметизация датчиков, микромеханических устройств и других миниатюрных компонентов.
Преимущества установки вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»
- Рабочая температура до 450 °C.
- Высокая равномерность распределения температуры в рабочей зоне.
- Возможность работы в высоком вакууме — до 0,001 Па (7,5 × 10⁻⁶ мм рт. ст.) в соответствующем исполнении.
- Минимизация пористости и газовых включений в паяных соединениях.
- Высокие скорости нагрева и охлаждения, сокращающие продолжительность технологического цикла.
Возможность бесфлюсовой пайки в различных газовых средах. - Автоматическое выполнение технологических программ с воспроизводимыми параметрами процесса.
Удобное управление с помощью сенсорного экрана. - Возможность удалённого мониторинга и управления.
Дополнительные опции
- Система подачи водорода (H₂). Позволяет проводить пайку в восстановительной атмосфере с содержанием водорода до 100 %. Предусматривает необходимые средства контроля и защиты при работе с водородом.
- Система подачи паров муравьиной кислоты (HCOOH). Встроенный барботёр обеспечивает подачу паров муравьиной кислоты в рабочую камеру. Применение HCOOH способствует восстановлению оксидных плёнок на металлических поверхностях, улучшает смачивание припоем и позволяет выполнять пайку без традиционных флюсов.
- Смотровое окно. Оснащение крышки камеры смотровым окном для визуального наблюдения за процессом пайки.
- Дополнительные исполнения системы электропитания. Возможность адаптации электрической части установки к параметрам питающей сети заказчика.
Основные характеристики установки вакуумной пайки УВП «ГелиТерм»
| Наименование параметра | Значение |
|---|---|
| Рабочая температура, °C | до 450 |
| Габаритные размеры, мм (Д × Ш × В) | 620х812х1500 |
| Размеры зоны нагрева, мм | 300х300 |
| Максимальная высота изделия, мм | 100 |
| Предельное остаточное давление при 25 °C (стандартное исполнение) | 10 Па (7,5 × 10⁻² мм рт. ст.) |
| Предельное остаточное давление при 25 °C (высоковакуумное исполнение) | 0,001 Па (7,5 × 10⁻⁶ мм рт. ст.) |
| Производительность вакуумного насоса, м3/ч | 8 |
| Масса установки, стандартное исполнение, кг (стандартное исполнение) | 150 |
| Максимальная скорость нагрева, °C/мин | 100 |
| Максимальная скорость охлаждения, °C/мин | 80 |
| Технологические среды | N₂, H₂ (до 100 %), N₂/H₂ (95/5), пары HCOOH |
| Охлаждение рабочей камеры | Водяное |
| Интерфейсы | Ethernet, USB |
Характеристики и состав оборудования могут изменяться в зависимости от выбранной комплектации и технологических требований заказчика.